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セミコンポータルによる分析

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アマゾンのキンドルで大ブレークした電子ペーパーに注目が集まったFPD 09

アマゾンのキンドルで大ブレークした電子ペーパーに注目が集まったFPD 09

アマゾンの電子ブックである「キンドル」が米国で好調を続けていることを反映して、FPD International 2009では、電子ペーパーが注目を集めた。キンドルのディスプレイを提供している米Eインク社は、フリースケール・セミコンダクタ、セイコーエプソンなどのチップメーカーと提携しているだけではなく、ポーランドのMpicosys社のようなスマートカードのベンチャーなど、続々とパートナーシップを結び、ビジネス拡大を図っている。 [→続きを読む]

スマートグリッドのさらに上を行くデジタルグリッドを東大阿部教授が提案

スマートグリッドのさらに上を行くデジタルグリッドを東大阿部教授が提案

太陽光発電など自然エネルギー発電が日本の電力網に大量に導入されると、日本全国各地で停電が起きやすくなる。スマートグリッドでさえ不十分、デジタルグリッドの概念の導入が重要なカギを握る。SPIフォーラム半導体エグゼクティブセミナーにおいて東京大学大学院工学系研究科の阿部力也特任教授はデジタルグリッドという大胆な提案を行った。 [→続きを読む]

デンソー、SiCのパワーMOSFETを自社製のSiC結晶で作る方法をタネ明かし

デンソー、SiCのパワーMOSFETを自社製のSiC結晶で作る方法をタネ明かし

10月24日から一般公開されたモーターショーにおいて、カーエレクトロニクスの専門メーカーであるデンソーはSiCのMOSFETを展示した。ドレイン耐圧1200V、ドレイン電流は放熱フィンを付けて100A程度流せる。同社が作製するSiC結晶の品質は群を抜いていると言われている。なぜ、どうやって高品質なSiC結晶を作っているのか、デンソーに取材した。 [→続きを読む]

ルネサス、SH-Naviシリーズのパートナー増強により市場拡大を図る

ルネサス、SH-Naviシリーズのパートナー増強により市場拡大を図る

SoCビジネスは、1社で何もかも開発すべきデバイスではない。カスタマやサプライヤーとの協力は欠かせない。このほど、ルネサステクノロジは、同社の持つ32ビットプロセッサコアSHシリーズを使った自動車用SoCを開発するため協力パートナー組織であるSH-Naviコンソシアムの会員が2008年度の54社から2009年度には71社と増えた、と発表した。 [→続きを読む]

中国の電子製品生産台数は前年を上回り、ICも8月に14%増を記録

中国の電子製品生産台数は前年を上回り、ICも8月に14%増を記録

中国のエレクトロニクス製品の生産が順調に伸びている。プラズマテレビの1〜7月累計の生産台数は前年同期比で2.15倍となり、輸出の伸びは大きくマイナスであるから中国国内での消費が伸びていることになる。液晶テレビも6、7月は前年を大きく上回り、パソコンは8月の生産が7月を上回り、過去最高の1661万台を記録した。 [→続きを読む]

25周年を迎えたIMEC、ずっと右肩上がりでやってきたその成長の謎を探る

25周年を迎えたIMEC、ずっと右肩上がりでやってきたその成長の謎を探る

IMECが創立25周年を迎えた。これまでの売り上げはずっと右肩上がりでやってきた。2009年7月に新たにCEOに就任したリュック・バンデンホッフ氏にインタビューすると、最初からグローバルにやってきたわけではないという。何が成功した要因なのか、インタビューを通してその謎に迫ってみた。 [→続きを読む]

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出展

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出展

サンケン電気、ローム、富士通研究所などがGaNやSiCなどの高温動作可能なパワーFETをCEATECで展示した。特に、サンケン電気はGaNのノーマリオフ型2次元電子ガスFET(いわゆるHEMT構造)とSiCのMOSFETの両方を展示した。ロームもSiCのMOSFETを展示し、従来よりもいっそう低いオン抵抗を実現するためトレンチ構造を使った。 [→続きを読む]

ASML、次世代液浸リソHolistic Lithography の全貌を明らかに

ASML、次世代液浸リソHolistic Lithography の全貌を明らかに

世界トップのリソグラフィメーカーであるオランダのASMLがいよいよ狭まってくるプロセスウィンドウを最適化し、歩留まりを確保できる統合的なリソグラフィ技術(Holistic Lithographyと呼ぶ)についてSEMICON Westで発表していたが、このほど日本の9メディアにも公開した。これは45nm、38nm、32nm、22nmと微細化が進むにつれ狭くなるプロセスウィンドウに対処し歩留まりを確保するための総合リソグラフィ技術である。 [→続きを読む]

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