半導体受託製造世界最大手の台湾積体電路製造（TSMC）の魏哲家董事長（C.C.Wei会長）兼最高経営責任者（CEO）は今月初めに台湾・新竹（シンチュウ）で開催された年次株主総会で、売上高と1株当たりの純利益が過去最高になり、株価は昨年6月3日に950台湾元だったのが、今年6月3日には2,425元と2.5倍になったと、過去1年間は大きな成果を上げたことを誇示したのちに、株主からの質問に答えた。 [→続きを読む]
米国半導体工業会（SIA）は、コンサルティング会社の米デロイト（Deloitte）と共同で、「AIを支える：データセンターの基盤となる半導体エコシステム」と題するレポートを発行（図1）し、その中で、最先端のAIデータサーバーラック（集中型AIインフラストラクチャの基盤となるユニット）を仮想的に分解することで、AIインフラストラクチャの中核を独自の視点から詳細に分析している（図2）。そして、全領域にわたる半導体技術が人工知能（AI）に不可欠であり、AIインフラストラクチャの価値のかなりの部分を占め、今後数年間で巨大な市場機会をもたらすと報告している。 [→続きを読む]
WSTSによると、世界の半導体市場は、2026年第1四半期(1〜3月)に前年同期比で史上最高成長率である79%も増加した。前四半期比では25%増となった。四半期ごとの25%の成長率は、WSTSの40年以上にわたるデータの歴史の中で最高であり、2009年第2四半期の20%の成長率を上回った。 [→続きを読む]
カナダに本拠を置く半導体市場調査会社であるTechInsightsが、2025年（暦年）世界半導体製造装置メーカー売上高ランキング・トップ15を発表した。ウェーハプロセスや計測メーカーのほか、ウェーハ搬送システムメーカーも含んでいる。この種の情報は、以前は米VLSI Researchが発表していたが、同社がTechInsights に買収されて以来、プレスリリースをとりやめてしまったため、アクセスが困難になっている。 [→続きを読む]
半導体業界は、人工知能（AI）と高性能コンピューティング（HPC）の需要急伸で新たな局面を迎えている。米国半導体工業会（SIA）は、2026年3月の月間世界半導体売上高（3カ月移動平均）が2025年3月の555億ドルと比較して79.2%増加したと5月4日に発表した（参考資料1）。2026年第1四半期の売上高は1年前の2025年第1四半期と比べると78.0%増加しており、このところ、データセンター向けAI需要の継続的な増伸により世界半導体売上高は、垂直に近い急峻な増加を続けている（図1）。まずは、最新のデータで世界半導体売上高の驚異的な急伸の現状を確認したうえで話を進めよう。 [→続きを読む]
台湾TSMCは、去る4月16日に2026年第1四半期決算説明会を開催した。そこで、売上高、利益ともに過去最高を4四半期にわたり更新し続け、絶好調であることが明らかになった。決算結果の業績については、津田編集長が週間ニュース分析（参考資料1）で取り上げているので、ここでは、世界中の著名な銀行や証券会社などの機関投資家とTSMC会長兼CEOのC.C. Wei（魏哲家）との生々しい質疑応答の模様を実況しよう。この質疑応答を通して、HPC/AIの需要急伸で同社の供給が間に合わない状況であり、グローバル規模で生産能力増強に取り組んでいる姿が浮き彫りとなった。 [→続きを読む]
伝統的に強いといわれてきた日本のパワー半導体産業が今後凋落しかねないことを、本稿著者は繰り返し本欄で指摘してきた。「パワー半導体は日本の強み！だけど漂う日の丸半導体凋落の既視感」（2022年、参考資料1）、「中国勢の攻勢で日の丸パワー半導体が失速、外国勢の勝ち組と組むしかない?!」（2025年、参考資料2）といった具合である。 [→続きを読む]
ハイエンドの汎用画像処理半導体（GPU）を手がける米Nvidiaは、生成AIというメガトレンドに乗って急成長を続けており、あっという間に世界半導体企業売上高ランキング・トップの座を射止めただけではなく、2位以下を大きく引き離して独走している。 [→続きを読む]
世界半導体月間売上高はYoYで46%増と絶好調だが 米国半導体工業会（SIA）が発表した2026年1月の世界半導体月間売上高（3カ月移動平均値）は、前年同月比（YoY）46.1%増、前月比3.7%増の825億ドルに達した。1月は季節的閑散期にあたるにもかかわらず、売上が繁忙期の12月から増加し、幸先の良い出だしとなった。半導体産業は、AI需要の継続的な伸びにより本年も昨年以上の成長が期待されている。多くの半導体関係者は、以前、世界半導体年間売上高が2030年頃に1兆ドルに達すると見ていたが、今年にも実現しそうな勢いである。 [→続きを読む]
去る2月24〜26日に米国カリフォルニア州サンノゼで開催された2026 SPIE Advanced Lithography + Patterning学会で、蘭ASMLの米国法人（元は露光装置光源メーカーのCymer, 2013年にASMLが買収）が、極端紫外線（EUV）の光源出力を従来の500W(販売中の最新モデルに搭載されている光源の出力)〜600W（開発中のモデル）からいっきに1000Wに上昇させる技術開発に成功したと発表した（図1、参考資料1参照）。 [→続きを読む]
