海外半導体企業7社が岸田首相に伝えた日本への前向きな投資内容とは？
去る5月18日、岸田文雄首相は、海外からの人材・資金の呼び込みや投資を促進するため、米国や欧州、韓国、台湾の半導体関連の主要企業7社のトップを首相官邸に呼び、意見交換会と称する会合を開催した。 [→続きを読む]
服部毅のエンジニア論点
中国恐るべし！中国はスパコンに続き先端EUV露光装置も自主開発か？
国家安全保障の観点から中国の半導体産業の台頭を抑えたい米国政府は、ASMLがEUV露光装置を中国に輸出せぬように、2018年以降、オランダ政府に強く働きかけてきた。このため、中国最大のファウンドリであるSMICは、それ以前に注文していたEUV露光装置を未だに入手できていない。それだけではなく、韓SK hynixも中国無錫での先端DRAMの製造をあきらめざるを得なくなっている。 [→続きを読む]
対中半導体輸出規制強化の元でIntelが強かに中国事業を強化するのはなぜ？
米国政府は、2022年10月に先端半導体関連技術の中国への輸出規制を強化することを発表した。ロジック半導体に関しては、16/14nm以下のトランジスタ構造（つまりFinFETまたはGAA）を備えたチップおよびその製造に使用される装置を規制対象とした。日本も域外規制の対象となっている（参考資料1）。 [→続きを読む]
「ムーアの法則」秘話：Gordon Moore死すともムーアの法則は死せず
米Intelは、3月24日（米国時間）、同社の共同創設者で、「ムーアの法則」の提唱者として知られるGordon Moore氏が94 才で亡くなったと発表した。その日のうちに世界中の半導体関係者から哀悼の辞が多数寄せられた（参考資料1）。 [→続きを読む]
2022年世界半導体企業売上高ランキングで日本勢トップ3は16〜18位に
英国に本拠を置く市場調査会社OMDIAは、自社のウエブサイト上で「2022年世界半導体企業の売上高ランキングトップ10」（参考資料1、2）を発表したが、日本企業は含まれていなかった。トップ15まで枠を広げても日本企業の名は出てこない。そこで、本稿著者が、OMDIAに取材して独自にトップ20まで枠を広げたランキングを入手したところ、やっと日本勢トップ3が団子状態で16〜18位に登場した。（表1）。 [→続きを読む]
TSMC熊本に次ぐ2番目の半導体工場建設は日本政府の補助金次第
台湾TSMCのCEOである魏哲家（C.C. Wei）氏（図1）は、2023年1月に開催された2022年第4四半期の決算説明会の最後に、同社の顧客の信頼を高め、同社が成⻑するための「世界的製造フットプリント拡⼤計画」を発表した。 [→続きを読む]
トランジスタ発明秘話：75年前のクリスマスイブに････
今からちょうど75年前の1947年（昭和22年）の暮れも押し迫った12月23日火曜日の午後のこと、米国ニュージャージー州マレーヒルのベル電話研究所（注1）で2人の研究者、バーディーン（J. Bardeen）とブラッテン（W. H. Brattain）（図1奥の2人））は、発明したばかりの（正確には、信号増幅作用を発見したばかりの）点接触型トランジスタを研究所の幹部にみせていた。もっとも、これが、「トランジスタ」と命名されたのはずっと後のことであるが（注2）。
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EUV露光装置の日本国内設置に高圧ガス保安法のカベ？
先端半導体開発および製造に必須のEUV露光技術は、ロジックデバイスについては、台TSMC、韓Samsungともに7nmプロセスから、DRAMに関しては、Samsung、韓SK hynixとも10-nm台の4世代目にあたる1α（あるいは1Aとも呼ばれる。最小線幅15nm前後といわれている）DRAMから採用を始めている。 [→続きを読む]
日本政府がベルギーimecと技術提携交渉、さらには研究所を日本に誘致か
ベルギーの先端半導体デジタル技術研究所であるimecは、去る11月７日に東京で技術イベントを開催した。そこで日本政府の半導体戦略の策定を陣頭指揮する経産省商務情報政策局の野原諭局長が、「ディープテックトランスフォーメーション：コンピューテイングパワーと半導体」と題して基調講演を行った。 [→続きを読む]
世界MEMS企業売上高ランキングトップ30に日本企業はわずか3社に激減
More-than-Moore（Mooreの法則による微細化には頼らない）半導体専門の市場動向調査グループである仏Yole Group は、2021年の世界MEMS市場規模が、2020年の115億ドルから17%もの記録的成長を遂げて136億ドルに達し、さらに今後年平均9%で成長し、2027年には223億ドルに達する見込みであると発表した。MEMSの過去の成長率は5〜10%程度であったから、昨年は異例ともいえる急成長の年となった(参考資料1)。 [→続きを読む]
