2026年10月 7日
|技術分析(製造・検査装置)
テストシステムを開発するためのグラフィカルなプログラミング環境である「LabVIEW」にも生成AI「Nigel AI」が導入され始めた。LabVIEWは、測定器を自動化するためのソフトウエアプラットフォームで、National Instrumentsが開発した。2023年にEmersonがNIを買収したがNIブランドは維持された。しかしNI Daysイベントは途絶えた。昨年NI Daysが復活、今年はNigel AIのロードマップが示された。
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2026年6月 4日
|技術分析(製造・検査装置)
次世代自動車がSD-V(ソフトウエア定義のクルマ)に向かう動向に備え、測定器メーカーのKeysight Technologyが一つのソリューションを提案した。それは、車載用ネットワークを共通化させることであり、AIソフトウエアの安全性を評価するツールである。これを、このほど横浜で開催された人とクルマのテクノロジー展で展示した。
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2025年11月14日
|技術分析(製造・検査装置)
Analog Devices(ADI)は、これまでの組込系開発環境であるCodeFusion Studio 1.0にAIワークフローをサポートする機能を盛り込んだCodeFusion Studio 2.0をリリースした。これは、AIモデルをシームレスにインポートし、GUIやコマンドを通してプロジェクトを生成できるツールだという。AIモデルを取り込める統合開発環境といえそうだ。
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2025年9月24日
|技術分析(製造・検査装置)
測定器メーカーのKeysight Technologiesが毎年恒例のKeysight Worldを開催、今年は任意波形発生器やハイエンドオシロスコープなどを駆使する量子コンピュータの測定システムQCSも示した(図1)。1000Qbitsまで対応できるシステムだと誇示した。キモはどうやらノイズの影響をいかに下げるか、のようだ。量子状態の実現は熱振動を避ける所から始まる。
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2025年4月23日
|技術分析(製造・検査装置)
測定器メーカー大手のKeysight Technologyは、成長し続けるAIデータセンター向けの測定技術KAI(Keysight Artificial Intelligence)アーキテクチャを提唱(図1)、具体的な製品群も発表した。このアーキテクチャは、超並列に演算するGPU(グラフィックスプロセッサ)などのワークロードをエミュレーションによって検証するもので、AIデータセンターをさらに拡張する場合に支援できる。
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2024年12月25日
|技術分析(製造・検査装置)
アドバンテストは、ダイシングフィルム上でパワー半導体をテストできるシステムを開発した。数百V、数十Aという高電圧・大電流を扱うパワー半導体では、安全性をしっかり確保することが何よりも最優先。このため、テスター装置の経験豊かなイタリアCREA(Collaudi Elettronici Automatizzati S.r.l.)社を2022年8月に買収、SiCやGaNなどのワイドギャップ・パワー半導体のテスターに進出した。
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2024年10月 9日
|技術分析(製造・検査装置)
産業技術総合研究所は、ペロブスカイト構造の太陽電池の実用化に向け、自動作製システムを試作した。ペロブスカイト太陽電池は、変換効率がシリコン以上の高い効率を示す試作は多いが、バラつきが大きいと共に、経時変化が大きく劣化しやすい、大面積が難しいなどの問題が山積み。少しでも手作業による作製ではなく自動機によってバラツキを減らす狙いで装置を開発した(図1)。
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2024年9月13日
|技術分析(製造・検査装置)
Keysight Technologiesは、周波数帯域200MHz~1GHz、サンプリングレート3.2Gサンプル/秒という2チャンネル/4チャンネルのオシロスコープ(図1)を137万円から発売した。オシロスコープといってもFFTを掛ければスペクトラムアナライザになる上、信号発生器やロジックアナライザ機能も内蔵しており、統合測定器ともいえるが、分解能が高くノイズが極めて低い。
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2024年8月 7日
|技術分析(製造・検査装置)
半導体の高周波特性やさまざまなパラメータ特性を測定する計測器を設計・製造しているKeysight Technologyが、今年で10回目となるプライベート展示会Keysight Worldを東京・JPタワーホール&カンファレンスで開催した。ここでVLSI 設計データのライフサイクルマネージメントやチップレットの設計ツール、静電容量方式によるボンディングワイヤーの非破壊検査などを紹介している。
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2024年4月19日
|技術分析(製造・検査装置)
Intelは1.8nmプロセスノードに相当するIntel 18Aに向け、オランダASML社製の高NAのEUVリソグラフィ装置「TWINSCAN EXE:5000」(図1)をプロセス開発拠点のあるオレゴン工場に導入した。まずIntel 18Aプロセスノードから導入し、Intel 14Aノードへと拡張していく予定だ。Intelのファウンドリ事業部が導入しTSMCに追いつき追い越す計画を進める。
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