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技術分析(製造・検査装置)

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ASML、次世代液浸リソHolistic Lithography の全貌を明らかに

ASML、次世代液浸リソHolistic Lithography の全貌を明らかに

世界トップのリソグラフィメーカーであるオランダのASMLがいよいよ狭まってくるプロセスウィンドウを最適化し、歩留まりを確保できる統合的なリソグラフィ技術(Holistic Lithographyと呼ぶ)についてSEMICON Westで発表していたが、このほど日本の9メディアにも公開した。これは45nm、38nm、32nm、22nmと微細化が進むにつれ狭くなるプロセスウィンドウに対処し歩留まりを確保するための総合リソグラフィ技術である。 [→続きを読む]

アルバック、タンデム型薄膜太陽電池を形成するための製造装置、評価装置を発売

アルバック、タンデム型薄膜太陽電池を形成するための製造装置、評価装置を発売

アルバックは、タンデム構造(アモーファスSiと微結晶Siとのスタック構造)の薄膜シリコン太陽電池を量産するためのターンキーシステムCIM-1400と、薄膜特性を評価するための検査装置MPEC-1300の販売を開始した。タンデム構造にするのは薄膜シリコン太陽電池の効率を上げるため。これにより変換効率は9%に上がり、パネルにおいて130W出力を保証する装置となっている。評価装置は1台でラマン分光から抵抗率まで6項目を測定できる。 [→続きを読む]

ドイツのテュフが太陽光発電モジュールの評価試験を行い認証するラボを公開

ドイツのテュフが太陽光発電モジュールの評価試験を行い認証するラボを公開

製品認証を手掛けるテュフラインランドジャパンは、太陽光発電システムの評価センターSEACが正式に稼働したことを発表した。テュフはドイツの認証機関TUVRheinlandの日本法人であり、SEACは横浜の都筑区に太陽電池モジュール評価ラボとして設立され、太陽電池モジュールの製品認証を行う。TUVは、ULと同様、第3者の認証機関ということで製品の認証には定評がある。 [→続きを読む]

ニューフレア、KLAに挑む、とっておきのマスク検査装置の詳細を明らかに

ニューフレア、KLAに挑む、とっておきのマスク検査装置の詳細を明らかに

ニューフレアテクノロジーは、つくばで開かれたSelete Symposium 2009において、ハーフピッチ(hp)45nm以降のLSI用マスクを短時間で検査できる手法を採りいれた新しいマスク検査装置NPI5000PLUSの詳細を明らかにした。極めて複雑なナノメーターLSI回路を焼き付けるマスクのコストが膨大になってきており、その一因が高額のマスク検査装置にもあると言われてきた。ニューフレアはKLAテンコールの独占ともいえるこの市場に一矢を報いることができるか。 [→続きを読む]

シリコン表面に2次元IDバーコードを打つレーザーマーカーをコマツが商品化

シリコン表面に2次元IDバーコードを打つレーザーマーカーをコマツが商品化

コマツエンジニアリングは、シリコンチップ上に2次元バーコードのID番号を打ち込むIDマーカーを開発、このほど販売を開始した。半導体ICチップ表面の一部に100μm角の領域に2次元のバーコードをレーザーマーカーによって印字する。この2次元バーコードはSEMIが提案している規格に準拠している。問題があったときにはリコールが義務付けられている自動車業界に向け、チップごとに製造番号を追跡できるため問題解決を促進する。 [→続きを読む]

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