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セミコンポータルによる分析

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EIDEC、グローバル協力で10nm台の加工にEUV導入目指す(2)〜マスク検査

EIDEC、グローバル協力で10nm台の加工にEUV導入目指す(2)〜マスク検査

EUVは物質を透過しやすいX線の一種であるため、光学系にはレンズではなく反射板を利用する。反射光学系のマスクブランクスは、W/Moの繰り返し積層構造を採っている。ここに欠陥が入るとパターンが歪んでしまうため、無欠陥にしたい。マスク検査は不可欠である。 [→続きを読む]

EIDEC、グローバル協力で10nm台の加工にEUV導入目指す(1)〜概要

EIDEC、グローバル協力で10nm台の加工にEUV導入目指す(1)〜概要

EUVのマスク、レジスト技術開発のコンソーシアムである、EUVL基盤開発センター(EIDEC)が最近の活動報告を行った(図1)。波長13.4nmのX線を使うEUVリソグラフィでは、ASMLだけが露光装置を開発しているが、EIDECは露光装置以外のEUV基本技術を受け持つ。出資は国内13社で、海外5社も共同研究で参加、荏原製作所とレーザーテックは装置開発パートナーとして参加、3大学と産業技術総合研究所も参加する一大コンソーシアムだ(図2)。 [→続きを読む]

PC向けは衰退、モバイル向けは成長、大きく分かれた2012年世界MPU市場

PC向けは衰退、モバイル向けは成長、大きく分かれた2012年世界MPU市場

スマートフォンやタブレットに使われるアプリケーションプロセッサは、これまでロジックに分類されることが多かった。マイクロプロセッサのジャンルにそれを含めると、世界のマイクロプロセッサのランキングは大きく変動した。1位のインテルは変わらないが、2位にはAMDではなくクアルコムが入り、3位サムスン電子、4位にやっとAMDという順序だった。これはIC Insightsが調べたもの。 [→続きを読む]

富士通セミコン、360度の視点で映像を合成するSoC、クルマ用途狙う

富士通セミコン、360度の視点で映像を合成するSoC、クルマ用途狙う

富士通セミコンダクターは、画像映像合成用のグラフィックスシステムLSIを開発、自動車のティア1メーカー向けに8月からサンプル出荷していく。4方向、合計4台のカメラからの映像(動画)を合成し表示する機能を持つ。クルマの上の視線からだけではなく、360度周囲からクルマを見たような映像を作り出す(図1)。 [→続きを読む]

Alteraが高効率電源メーカーEnpirionを買収した理由とは?

Alteraが高効率電源メーカーEnpirionを買収した理由とは?

Altera(アルテラ)社が電源メーカーのEnpirion(エンピリオン)社を買収したと発表した。FPGAメーカーであるAlteraがなぜ電源メーカーを買収したのか。一見関係のないように見えるこの提携は、28nmや20nmといった最先端の微細なLSIを正常に動作させるために電源がカギを握ること、ソリューションビジネスが重要になってきたことと深く関係する。 [→続きを読む]

日本の電機メーカーのデザインをサポートしたい

日本の電機メーカーのデザインをサポートしたい

Nikhil Joshi氏、インドDelta Embedded Solutions社Executive Director 5月8日〜10日、東京ビッグサイトで開かれた2013 Japan IT week春にインドの組み込み開発企業が出展した。インドのエレクトロニクスとIT関係の2300の企業をメンバーとするESC(Electronics and Computer Software Export Promotion Council)が10数社を代表として送り込んだもの。ソフトウエア開発企業が多い中、エレクトロニクスの設計会社として参加したDelta Embedded Solutions社にその狙いを聞いた。 [→続きを読む]

ルネサス、0.2V→1.8Vの昇圧DC-DCコンと4μWで動作するマイコンを開発

ルネサス、0.2V→1.8Vの昇圧DC-DCコンと4μWで動作するマイコンを開発

究極の超低消費電力動作を目指して、ルネサスエレクトロニクスがエネルギーハーベスティング用デバイスを開発、ユーザーに提案するため、ESEC(組込みシステム開発技術展)に出展した(図1)。このデバイスは、200mVを直接1.8Vに昇圧するDC-DCコンバータと、4μWで動作するマイクロコントローラ(マイコン)だ。 [→続きを読む]

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