2007年10月 2日
|市場分析
2007 年上期の中国IC 産業、前年同期比33.2%増。
2007 年3 月、インテルは大連に投資額25 億米ドルで300mm 工場の建設予定を発表。
2007 年4 月、華虹NEC(Hua Hong NEC Electronics) はCYPRESS と提携し、013um エンベデッドフラッシュ/EEPROM プロセスに取り組んでいくことを発表。
2007 年6 月、展訊通信(Spreadtrum)は米国ナスダックに上場。
2007 年7 月、SMIC は65nm プロセスを年末に正式に量産開始することを発表。
2007 年8 月、長電科技(Changjiang Electronics Technology)は年間生産能力50 万個の新しいIC 工場を稼動開始したと発表。
今後、産業経済のルールに従い、IC 供給と需要の課題を解決するのが急務である。
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2007年10月 2日
|技術分析
シーメンスとソフトバンクモバイルは、シーメンスが開発したHSDPA対応のデータ通信モジュール、HC28を発売する。シーメンスのブランドでソフトバンクの販売網を使って日本国内で売り出す。これは、5cm×3.4cm×0.45cm(厚さ)という大きさの通信モジュールで、日本のHSDPAに対応しているだけではなく、同じく3周波数帯域(850/1900/2100MHz)のUMTSと4周波数帯域(850/900/1800/1900MHz)のGSM・GPRS・EDGEにも対応する。いわば世界中に使える通信モジュールといえる。
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2007年10月 1日
|産業分析
台湾のMediaTek社は、10月1日、日本法人を設立、日本市場への本格参入を表明した。
CD-ROMドライブやDVDドライブ/プレイヤーで実績のあるこのファブレス企業は、1997年設立以来、ずっと右肩上がりの成長を続けてきた。2006年は対前年比14%増の16億900万米ドルだが、2007年は6月までに10億ドルを売り上げており、通常年の後半に伸びることを考慮すると20億ドルを越えることは間違いないと同社董事長(会長)の蔡明介氏(写真)は見ている。
日本市場で狙う分野は、Blu-Rayなどの新しいストレージ、デジタルカメラ、HDTV、GPSの四つである。
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2007年9月28日
|市場分析
半導体製造装置市場に黄色信号が灯っている。
日本半導体製造装置協会が9月28日発表した、日本製半導体製造装置の8月までの受注額と販売額を見ると、B/Bレシオ(販売額に対する受注額の比)は7月から1.00を割ってきている。あまりよい方向ではない。しかもB/Bレシオは、2月の1.31から3月に1.03と急落し、その後1.00を割り、6月にようやく1.02まで回復したものの、7月、8月と連続して落ち込んだ。
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2007年9月28日
|技術分析
米SiTime(サイタイム)社は、LSIパッケージに封止した厚さ0.75mmと薄いシリコンのMEMS発振器を開発、サンプル出荷中である。2008年1月には量産する予定。携帯電話に使われる部品の中で最も厚いものは今や、水晶振動子だけになってしまった、とサイタイム社カントリーマネージャーの櫻井俊二氏はいう。
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2007年9月21日
|技術分析
米国の高機能材料メーカーであるATMI社は、米Intermolecular社の販売する、数十個のミニチャンバを備えたプロセス実験装置を購入、その事例について明らかにした。この装置は、1枚のウェーハ上で実験条件や材料を数十種類も同時に変更できる研究開発向けの超ミニチャンバを集積したもの。
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2007年9月20日
|技術分析
日本テクトロニクスは、高速シリアルインターフェースの一つであるPCI Express 2.0に対応したロジックアナライザを開発した。バージョンが2.0に上がったことからデータレートは従来の2.5Gbpsから5.0Gbpsに高速化した。加えて、ダイナミックにデータレートを変えたり、送信・受信のペアのレーン数を1本、4本、8本、16本とダイナミックに変えられるという柔軟性がある。
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2007年9月19日
|市場分析
日本市場における半導体製造装置のB/Bレシオは7月末現在、3ヶ月の移動平均で1.15とまずまずの見通しを示した。日本半導体製造装置協会(SEAJ)が発表した、2007年7月の「半導体製造装置受注・販売統計---日本市場」によるもの。推移のデータを見る限り、装置の受注は堅調である。
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2007年9月14日
|技術分析
米Aviza Technology社は、3次元SiP製造に向けた貫通孔形成プロセスに注力している。セミコン台湾において同社が出展した理由はまさにこの点にある。つまり台湾では今、LSIパッケージメーカーが貫通孔形成技術の開発に注力しているからだ。
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2007年9月14日
|技術分析
半導体メモリーの成長性がはっきりしてきたことで、バッチ式のALD(原子層エピタキシャル)技術が新たな展開を見せている。日立国際電気は、DRAM製造向けの装置が2006年にブレークし、12月には累計出荷台数が100台を突破した。
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