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セミコンポータルによる分析

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高周波MEMSスイッチを国内2社が展示、マルチ周波数に対応

高周波MEMSスイッチを国内2社が展示、マルチ周波数に対応

 MEMS(micro electro mechanical system)ビジネスが広がっている。超微細な機械加工をシリコン上で行ってきたMEMS技術だが、その定義も広がっており、基板はシリコンとは限らず、石英、ステンレスなど、基板を問わなくなってきている。7月25-27日に東京ビッグサイトで開かれた「マイクロマシン/MEMS展」では、この産業の広がりをみせ、基板種類の広がりだけではなく、MEMS加工装置や設計ツール、計測器、材料、さらにはファウンドリサービスまで広がっている。来場者数は過去最高の1万2424人と対前年比6%増、出展者は347社と昨年の313社よりも11%伸ばした。 [→続きを読む]

450mm計画はコラボレーションが最も重要

450mm計画はコラボレーションが最も重要

International SEMATECH Manufacturing Initiative Scott Kramer氏 米半導体コンソーシアムSEMATECHの子会社で生産性にフォーカスするISMI(International SEMATECH Manufacturing Initiative)社が450mmウェーハの実用化に向けて動き出した。この7月のSEMICON Westでその旨を発表したが、このほど来日したISMIトップのScott Kramerディレクタにその詳細を聞いた。 [→続きを読む]

実験条件を数十〜数百種類も同時に変えられるプロセス開発サービス

実験条件を数十〜数百種類も同時に変えられるプロセス開発サービス

 2004年に創立されたばかりの米国のベンチャー、Intermolecular社は、半導体プロセス開発に向け、1枚のウェーハで数十〜数百種類もの実験条件を同時に変えられる新しい実験装置を、コンサルティングサービスとともに売り出した。7月のSEMICON Westで発表されたこの装置の狙いは、新材料・プロセス開発期間の短縮にある。 [→続きを読む]

6月の半導体製造装置BBレシオ、日本は1.02に上昇するも要注意

6月の半導体製造装置BBレシオ、日本は1.02に上昇するも要注意

北米装置は0.94と低調ながら受注・販売とも回復基調に  2007年6月の半導体製造装置市場の3ヶ月平均BBレシオは、日本製装置は1.02、北米製装置は0.94となった。日本製装置の3ヶ月平均BBレシオは、3ヶ月ぶりに1を超えた。北米装置のBBレシオ0.94は2006年10月以来の低値となった。 [→続きを読む]

シャープ、超小型チューナ技術の一部を明らかに

シャープ、超小型チューナ技術の一部を明らかに

 シャープは先月、携帯電話向けの地上デジタル1セグメント放送受信用のチューナモジュールVA3A5JZ912を発表したが、Wireless Japan 2007でその技術的な内容を一部公開した。7月からサンプル出荷を始めた、この地デジチューナは、大きさが7.3mm角で厚さが1.25mmときわめて小さいため、携帯電話の薄型化に向く。 [→続きを読む]

ZigBeeで沸くワイヤレスジャパン2007

ZigBeeで沸くワイヤレスジャパン2007

 ZigBeeネットワークの開発がしやすくなってきた。チップを手掛ける企業がフリースケール以外にも増えてきただけではなく、開発を容易にするツールやキットが手に入りやすくなってきたためだ。  7月18日、東京ビッグサイトで開幕したワイヤレスジャパン2007では、ベンダー6社によるZigBee相互接続が行われ、ルネサス テクノロジや沖電気工業、フリースケール・セミコンダクター、英Jennic社、テキサスインスツルメンツ社、NECエンジニアリングがそれぞれのZigBeeネットワークデバイスを無線でつなぎ、その通信接続状態をパソコンで見ることができるようにした。 [→続きを読む]

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