Mark Melliar-Smith氏、米Molecular Imprints社CEO 2001年、米国テキサス州オースチンで創業したMolecular Imprints社が、22nm以降のリソグラフィ技術であるナノインプリント装置を開発、まだ試作用であるが大手数社に納入した。22nmとなると従来の延長技術のダブルパターニング、あるいはEUV（13.5nmの超短波長）リソグラフィが候補に上がっている。ダブルパターニングはスループットが半分、EUVは光源、マスクなど未解決の問題を抱えている。ナノインプリントは割り込めるか。来日したMolecular Imprints社CEOのMark Melliar-Smith氏に勝算を聞いた。 [→続きを読む]
トヨタ自動車は、半導体ICチップがいつどこで生産されたウェーハのどの部分から切り出したチップなのかを知るためにトレーサビリティIDを付与する活動に積極的に参加していることを、12月18日東京で開催されたSPIフォーラム「車載半導体、品質とトレーサビリティのインパクト」で明らかにした。自動車産業は半導体チップを売りっぱなしで済むという産業では決してない。万が一の事故に備え、いつどこで作られたチップなのかトレースしなければならない。 [→続きを読む]
世界における半導体製造装置市場の10月の実績がまとまった。10月の世界市場は17億4033万ドルと昨年同期比の半分、51%しかない。前月の23億4321万ドルよりも少ないが、これは3カ月おきの変動ルール（3月をピークに4月、5月と下がり、6月にふたたびピークを迎えるという3カ月おきの周期性）にのっとっているだけでさほど問題ではない。問題は前年の10月の半分しかないという点だ。このデータはSEMIとSEMIジャパン、SEAJがまとめたもの。 [→続きを読む]
信越ポリマーは、ウェーハの厚さを50μm以下と薄く削った後でさえ、260℃のハンダリフロー炉に通すことのできる支持用治具を開発、これから半導体メーカー、装置メーカーに提案していく。接着剤を使わずにウェーハに張ったフィルムを、ハンダボールを形成した後でもウェーハから容易にはがすことができるために溶剤を使う必要はない。このためウェーハ表面を傷めたり、溶剤による環境負荷を与えることはない。 [→続きを読む]
世界経済の減速を受けて、中国でのエレクトロニクス製品、半導体製品の生産が減速していることがはっきりしてきた。中国家電協会によれば、2008年1~8月の家電輸出の伸び率は前年同期比で10.7%減とブレーキがかかっている。10月に「中国共産党第十七期中央委員第3回全体会議」と、それに続く「中国国務院（政府）常務会議」において、4兆元（56兆円）もの財政出動を決め、内需拡大を推進し始めた。 [→続きを読む]
単結晶太陽電池は今住宅用として主流を行く。屋根に設置するソーラーシステムとして他のセルと比べると屋根の平均面積40平方mに収まるほど効率の高いセルが入手できないからである。セルだけではなくソーラーシステムとしてみればトータルコストはむしろ単結晶の方が安いとスペースエナジー社は主張する。材料メーカーの視点からの講演を紹介する。 [→続きを読む]
ファブレス半導体で米Qualcommに次ぎ第2位のBroadcom社が携帯電話向けにWi-FiやBluetooth、FM送受信回路を1チップに集積したICを開発、サンプル出荷している。なぜ、これらの機能を携帯に載せ、1チップに集積したか。その中身を見ると、次世代の携帯電話機で何をしようとしているのかが見えてくる。これまでの国内携帯電話にはカメラやテレビ、ゲームなどの機能が載っているが、電話料金を気にせず写真や音楽などの重いファイルを誰もが取り込むことは通信キャリヤにしても気の進まないことである。 [→続きを読む]
アモルファスシリコン太陽電池をいち早く開発、電卓に応用した三洋電機は結晶シリコンを使った太陽光発電ビジネスでも常に上位にいる。効率の高いHIT構造の太陽電池は20%近い効率で商用化した実績を持つ。研究段階ででは22.5%もの効率を誇る。三洋電機の講演を紹介する。 [→続きを読む]
セミコンジャパン2008に併せ、第3回SEMI太陽光発電シンポジウムが幕張で開催された。太陽光発電は、長期的な展望に立った技術であるため、現状と将来への展望について、業界を代表し、研究開発的な立場から産業総合研究所太陽光発電研究センター、セルやモジュールを生産するメーカーとして三洋電機、セルの鍵となる材料のシリコン立場からスペースエナジーからの発表をまとめた。まず、産総研の講演から紹介する。 [→続きを読む]
「200mmから300mmウェーハへ移行するときもそうだったが、難しい問題にぶち当たるとすぐにできない、という人がいるが、エンジニアはイノベーティブな手法を開発し難問を解決した。そのときの難問はリソグラフィのスループットだった。しかし、300mmスキャナーが発明されたことで200mmと同じスループットを手に入れた。何もしないうちからデキナイという人は好きじゃない」。SEMATECH傘下のISMI（International SEMATECH Manufacturing Initiative）の製造技術部門バイスプレジデントのScott Kramer氏は言い切る。 [→続きを読む]
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