マスク検査時間の40%短縮をASETが発表

超先端電子技術開発機構(ASET)のマスクD2I技術研究部は第二回成果報告会を4月11日に東京で開催した。リソグラフィ技術の中で、マスク設計や描画、検査技術といった開発テーマを平成18年度から21年度に渡り、研究しようというもの。今回の報告会では、前年度すなわち、2008年3月に終了した平成19年度の仕事について紹介した。 [→続きを読む]
超先端電子技術開発機構(ASET)のマスクD2I技術研究部は第二回成果報告会を4月11日に東京で開催した。リソグラフィ技術の中で、マスク設計や描画、検査技術といった開発テーマを平成18年度から21年度に渡り、研究しようというもの。今回の報告会では、前年度すなわち、2008年3月に終了した平成19年度の仕事について紹介した。 [→続きを読む]
これまで見てきたように、エレクトロニクス・イノベーションのエコシステムができている、ケンブリッジとブリストル地域では、産学協同が盛んである。ともに大学があり、ベンチャーが集う街でもある。両地域とも、大学が社会に役立つ応用研究に力を入れ、社会に還元するという役割をはっきりと意識した産学共同プログラムを進めている。 [→続きを読む]
「高精細なHDTVを見ると誰でもアナログテレビに戻れなくなる。同じことがインターネットのYouTubeでもいえる。みんなはもっと良い画質で見たいはずだ。従来の光ファイバネットワーク製品のプロトコルを使ったGbpsオーダーの電子機器が民生分野にも必ず降りてくる」。カナダのファブレス半導体メーカーGennum社社長兼CEOのFranz Fink氏はこう言い切る。Globalpress主催のeSummit08ではギガビット伝送のトレンドが見えた。 [→続きを読む]
世界の半導体製造装置市場の2月実績をみると、製造装置の販売はやや上向いてきたと、いえそうだ。対前年同期比で5.5%増という結果だ。2007年10月から2008年1月まで4ヵ月連続対前年割れを示してきたが、2月になってようやくプラス成長へと逆転してきたからだ。このグラフをみると面白い傾向がある。 [→続きを読む]
水晶振動子並みの安定なクロック発生器で、CMOSチップ並みに周波数をプログラムできる。しかも位相ノイズやジッターは少ない。こんな理想的なCMOSクロック発生器を米国のファブレスベンチャーMobius Microsystems社が間もなくサンプル出荷を始める。同社製品マーケティング担当ディレクタのTunc Cenger氏がGlobalpress Connection社主催のElectronics Summit2008でその技術の詳細を明らかにした。 [→続きを読む]
テクノビジョンコンサルティング代表 牧本次生 Makimoto's Wave を提唱した牧本です。今回のセミコンポータル社の記事を大変興味深く、またある種の感慨と共に拝読しました。私がこのコンセプトを着想したのは20年も前の1987年です。今なお半導体の最前線で活躍されている方々の関心を集めているということは、ウエーブのコンセプトの中に半導体技術の宿命である普遍的で永続的な課題が含まれているからだと思います。 [→続きを読む]
携帯電話やWiFi、カーナビ、RFIDなどワイヤレスの機器や部品が、通信だけの分野からコンピュータやカーエレクトロニクス、民生などありとあらゆる分野に取り込まれるようになってきた。高周波(RF)回路とアナログやデジタル回路を搭載したプリント板設計はますます多品種になってくる。全ての回路を統合したEDAツールがあればPCB設計期間は半減する。こんな設計ツールをMentor Graphics社とAgilent Technologies社が共同で開発した。 [→続きを読む]
携帯電話並みの大きさで、どこでも誰でも映せる超小型ハンディプロジェクタを米Microvision社は2009年末に製品化する計画である。このプロジェクタモジュールは大きさが2cm角強、厚さは7mmと極めて小さいため、iPodサイズの専用のハンディプロジェクタのほか、携帯電話機に実装したプロジェクタも2009年第2四半期ないし第3四半期には出荷する計画だ。Globalpress主催のeSummit2008でMicrovision社が明らかにした。 [→続きを読む]
論理の検証やタイミングは正常だったのに、タイミングエラーによってSoCチップが動作しなくなるというエラーが65nm以降の微細化と共に起こりやすくなっている。配置配線のやり直しを含め、ユーザーと決めた納期に間に合わなくなるという問題が現実的になってきている。最初からタイミングクロージャーを考えて設計しなければならない。これを可能にするツール、CHAIN works2.0を米Silistix社が発表した。 [→続きを読む]
配線パターンが露光する光の波長(193nm)よりもはるかに短くなると、光がマスクパターンの隙間に入っていかなくなるため、設計通りのパターンを作ってもその通りに描写されない。極端に難しいのは長さの短い十文字のパターンだ。もはやこのようなパターンは45nmでは不可能に近い。 [→続きを読む]
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