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セミコンポータルによる分析

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グラフィックス、画像認識などIPを強化したデュアルコアSoCをルネサスが開発

グラフィックス、画像認識などIPを強化したデュアルコアSoCをルネサスが開発

ルネサス テクノロジは、グラフィックスや画像認識機能に加え、PCI ExpressやシリアルATAなど高速シリアルインターフェースを充実させた、デュアルコアでスーパースケーラ構造(2命令同時発行)のプロセッサコアをもつ、車載エンターテインメント向けSoCの基本アーキテクチャを開発した。カーナビと車両制御を1つのSoCで制御できる高級車種から参入する。このSH7776(SH-Navi3)ほど高集積なチップを使ったカーナビはまだない。 [→続きを読む]

半導体製造装置の売り上げはどん底に

半導体製造装置の売り上げはどん底に

半導体製造装置の世界販売額がこの1年間で最低を記録した。SEMI、SEAJ,SEMIジャパンが共同でまとめた2008年11月分の「Worldwide SEMS Report」によると、11月の対前年同期比は54.6%減の12億3200万ドルにまで落ちた。ここ5ヵ月間、前年同期比で40%以上も低い割合で製造装置の売り上げが落ち続けている。 [→続きを読む]

SEAJの09年製造装置国内市場予測は半導体が2年連続マイナス、FPDは30%増

SEAJの09年製造装置国内市場予測は半導体が2年連続マイナス、FPDは30%増

日本半導体製造装置協会(SEAJ)が2008年度から2010年度まで3年間に渡る半導体およびFPD(フラットパネルディスプレイ)製造装置市場の見通しを日本市場と日本製装置について発表した。その結果、日本市場における半導体製造装置は2008年度が36%減の6844億円、2009年度は25%減の5133億円、FPD製造装置は2008年度が1437億円と横ばい、2009年度は30%増の1867億円と予測した。 [→続きを読む]

難局は発展の好機、強気の経営方針:パナソニック

難局は発展の好機、強気の経営方針:パナソニック

業界全体が金融危機で販売目標を大幅に下方修正、人員削減に走る中、恒例の社内外を対象にした年頭経営方針説明会で、パナソニック社長大坪文雄氏は、薄型テレビ事業前年比50%増、白物家電の欧州市場への新規参入とアジア市場の強化によるトップ・ブランドの確立、システム・設備事業の海外展開、アシスト・ロボット事業など新規事業創出、三洋電機のリソースを生かしたエナジー事業の展開など強気の経営方針を発表した。 [→続きを読む]

中国半導体ICの生産個数が減少、世界不況と過剰な設計企業がIC産業を直撃

中国半導体ICの生産個数が減少、世界不況と過剰な設計企業がIC産業を直撃

中国半導体ICの生産個数が、2008年8月以降、下がり続けている。11月は35億4700万個となった。例年だと、第4四半期に増産による増加傾向が見られていたが、これまでの傾向とは全く違うことがアレグロ インフォメーションが毎月発行している「中国レポート:Electronics and Semiconductor China」2008年12月号で明らかになった。世界経済の不況が中国のIC産業にも現れてきたとみている。 [→続きを読む]

半導体メジャー3社のトップ年頭訓示、次の成長軌道に乗るための秘策を語る

半導体メジャー3社のトップ年頭訓示、次の成長軌道に乗るための秘策を語る

国内半導体メーカー、トップスリーである東芝、ルネサス テクノロジ、NECエレクトロニクスの各社それぞれのトップから年頭の訓示が発表された。今年の年頭のあいさつはいずれも2009年のビジネス状況について大変厳しい事業環境の中にあると捉えている。それを乗り切る妙手はあるか。各社とも苦渋をにじませながらも次の成長軌道に乗るための準備に余念がない。 [→続きを読む]

日本製半導体製造装置、11月も10月同様、低迷中

日本製半導体製造装置、11月も10月同様、低迷中

日本製半導体製造装置の販売額に対する受注額の比であるB/Bレシオが10月の0.81から11月は0.75と一段と落ち込んだ。これは日本半導体製造装置協会(SEAJ)が発表したもので、B/Bレシオは販売額、受注額の3か月の移動平均をとっている。受注が落ちていることは厳しい。0.75という低い値もめったにないが、前年同期比での販売額、受注額とも減少していることはもっと厳しいことを表している。 [→続きを読む]

ナノインプリントの量産化は22nm以降のNANDフラッシュ、ハードディスクから

ナノインプリントの量産化は22nm以降のNANDフラッシュ、ハードディスクから

Mark Melliar-Smith氏、米Molecular Imprints社CEO 2001年、米国テキサス州オースチンで創業したMolecular Imprints社が、22nm以降のリソグラフィ技術であるナノインプリント装置を開発、まだ試作用であるが大手数社に納入した。22nmとなると従来の延長技術のダブルパターニング、あるいはEUV(13.5nmの超短波長)リソグラフィが候補に上がっている。ダブルパターニングはスループットが半分、EUVは光源、マスクなど未解決の問題を抱えている。ナノインプリントは割り込めるか。来日したMolecular Imprints社CEOのMark Melliar-Smith氏に勝算を聞いた。 [→続きを読む]

トヨタが半導体ICチップのトレーサビリティID付与のメリットを強調

トヨタが半導体ICチップのトレーサビリティID付与のメリットを強調

トヨタ自動車は、半導体ICチップがいつどこで生産されたウェーハのどの部分から切り出したチップなのかを知るためにトレーサビリティIDを付与する活動に積極的に参加していることを、12月18日東京で開催されたSPIフォーラム「車載半導体、品質とトレーサビリティのインパクト」で明らかにした。自動車産業は半導体チップを売りっぱなしで済むという産業では決してない。万が一の事故に備え、いつどこで作られたチップなのかトレースしなければならない。 [→続きを読む]

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