SEMIは2012年における半導体シリコンウェーハの総面積が前年比0.1%減の90億3100万平方インチになったことを発表した。2010年にはリーマンショックからの回復が急激すぎたため、11年にその反動を受けたが、12年ではほぼ横ばいという結果に終わった。

図1　半導体シリコンウェーハの出荷総面積　縦軸は百万平方インチ　出典：SEMI

発表されたシリコンウェーハには太陽電池は含まれていない。ウェーハメーカーから出荷された鏡面ウェーハとエピタキシャルウェーハを合計した数字である。バージンテストウェーハを含むが、テストウェーハ後に加工した再利用ウェーハは含まない。純粋の半導体ウェーハが出荷された総面積を表している。

ウェーハ面積としては2010年がピークになっているが、今年は面積ベースで4%成長すると仮定するなら、2010年のレベルを抜き過去最大の面積になる。明るい材料としては、2012年は若干のマイナス成長だった中で、300mmウェーハの出荷面積は過去最高レベルに達したとSEMI SMGのチェアマンのBrad Hong氏は語る。

ウェーハの出荷金額は2012年に前年比12%減の87億ドルだった。2011年のウェーハ面積は前年よりも減少したが、その販売額は2%増の99億ドルと伸びた。