シリコンウェーハの消費量が回復してきた。2012年第2四半期（4〜6月）におけるシリコンウェーハ面積が前月比20.4%増の24億4700万平方インチになった。これは、過去最高だった2010年第3四半期における24億8900万平方インチに次ぐ数字である。

図　シリコンウェーハ出荷面積が回復　出典：SEMI

半導体市場が2011年第4四半期から2012年第1四半期にかけて世界的に落ち込み、特に2012年第1四半期は前年同期比8%減を記録した。今期のウェーハ出荷面積は、前年同期比は2%増しかないが、ようやく回復基調が見えてきたといえる。SEMIでは、2012年全体のウェーハ需要は2011年レベルと見ているが、これは第3、第4四半期とも同様なレベル（23億〜24億平方インチ）で推移すると見ていることになる。WSTSが今年の伸びを0.8%増と予測したことと符合する。

SEMIが発表したこの数字は、鏡面ウェーハ、エピタキシャルウェーハ、ノンポリッシュウェーハを集計したもので、太陽電池用のシリコンを含んでいない。