7nmプロセスのEUVに期待〜セミコンジャパン2016特別インタビュー
石内 秀美氏、先端ナノプロセス基盤開発センター(EIDEC)代表取締役社長
2016年4月に代表取締役社長に就任した石内秀美氏。EIDECは元々EUVのマスク検査技術の開発に取り組んできた。新社長はこれからどう進めていくのかを聞いた。(動画あり)
元東芝の技術イノベーション部部長であった石内氏は、半導体エレクトロニクス技術に関して豊富な知識を持つ。新たに就任したEIDECの進むべき道を語っている。(撮影は2016年12月)
セミコンジャパン2016特別インタビュー一覧 (敬称略、五十音順)
- 石内 秀美 先端ナノプロセス基盤開発センター 代表取締役社長
- 河合 利樹 東京エレクトロン 代表取締役社長
- 久保 法晴 日本ナショナルインスツルメンツ テクノカルマーケティングマネージャー
- 斎藤 昇三 デバイス&システム・プラットフォーム開発センター 代表取締役会長
- 南川 明 IHS 主席アナリスト
(2017/01/06)