本日の世界のNewsは、「華為が1.4nmプロセスノードを2031年に実現目標に」を選びました。

華為科技（ファーウェイ）は、リソグラフィ上のスケーリング則が止まったことを知っていますので、デバイスや配線をうまく3次元化することで、1.4nmプロセスに相当する集積度を高められる技術を2031年までに開発するという目標を掲げました。リソグラフィ的には7nmプロセス相当でも、GAAトランジスタによるCFETや3次元配線などで、1.4nm相当の集積度は可能になるかもしれません。何らかの3次元配線やレイアウトでブレークスルーが必要ですが、それに自信を持っているようです。

華為が1.4nmプロセスノードを2031年に実現目標に
全文：Huawei 1.4 nm target leans on Tau Scaling Law, EE News Europe