High-NAのEUVリソグラフィ装置の次となるか、Hyper-NAのEUV開発計画
リソグラフィ最大手ASMLはIntelのオレゴン工場にHigh-NA(Numerical Aperture:開口数)のEUV装置を初出荷したが、海外複数のメディアによると、早くも次のHyper-NAのEUV装置開発が始まりそうだ。従来のEUV装置のNAは0.33でHigh-NA装置は0.55、そしてこれから開発するHyper-NAは0.75となり、これまで以上に微細加工が可能になる。
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