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7nmプロセスのEUVに期待〜セミコンジャパン2016特別インタビュー

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石内 秀美氏、先端ナノプロセス基盤開発センター(EIDEC)代表取締役社長

2016年4月に代表取締役社長に就任した石内秀美氏。EIDECは元々EUVのマスク検査技術の開発に取り組んできた。新社長はこれからどう進めていくのかを聞いた。(動画あり)



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