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7nmプロセスのEUVに期待〜セミコンジャパン2016特別インタビュー

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石内 秀美氏、先端ナノプロセス基盤開発センター(EIDEC)代表取締役社長

2016年4月に代表取締役社長に就任した石内秀美氏。EIDECは元々EUVのマスク検査技術の開発に取り組んできた。新社長はこれからどう進めていくのかを聞いた。(動画あり)

元東芝の技術イノベーション部部長であった石内氏は、半導体エレクトロニクス技術に関して豊富な知識を持つ。新たに就任したEIDECの進むべき道を語っている。(撮影は2016年12月)

石内 秀美氏、E先端ナノプロセス基盤開発センター(EIDEC)代表取締役社長

セミコンジャパン2016特別インタビュー一覧 (敬称略、五十音順)

(2017/01/06)

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