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シリコン面積の推移、リップルを描きながら緩やかに成長

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2014年第1四半期におけるシリコンウェーハの出荷面積は、前期比で7%増の23億6400平方インチになったと、SEMIは発表した。これは前年同期比でも11%増である。ここ1年程度、足踏み状態にあったシリコンの面積は、ようやく上向きに転じた。

図1 シリコンウェーハ面積の推移 出典:SEMI

図1 シリコンウェーハ面積の推移 出典:SEMI


図1のグラフをどう読み取るか。2008〜2009年のリーマンショックの急激な落ち込みがあり、その後、急速な回復があった。しかし、回復の速度は急過ぎた。まるで、パルス波形のオーバーシュートのように見える。

そこで、この推移をパルス波形のようにアナロジーで見てみると、オーバーシュートは2010年第3四半期のピーク後2011年の第4四半期および2012年第1四半期まで落ちた。パルス波形だとその後、山谷を多少繰り返すリップル現象を示す。この経済現象もオーバーシュートの谷が2011年第4四半期と2012年の第1四半期にあり、その後リップルを描いている。しかし、リップルが落ち着くのではなく、山谷を繰り返しながら上昇しているように見える。

自然科学現象も経済現象も似たような力の綱引きが関係していると考えると、直近の半導体は、着実な成長が続いていると見てよいのではないだろうか。

(2014/05/27)

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