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米商務省、5nmやEUVマスク技術など半導体関連技術の輸出管理項目を追加

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米国商務省は、5nm LSIやEUV関連技術など6項目の重要な最新技術(Critical and Emerging Technologies)を輸出管理に加え、合計37項目を輸出管理技術とすると発表した。10月15日(米国時間)に発表されたこれらの重要なテクノロジーの多くは半導体技術に関連する。

図1 米商務省ホームページ

図1 米商務省ホームページ

米国商務省の産業安全保障局BIS(Bureau of Industry and Security)が今回追加した6項目は以下の通りである(参考資料1)。

(1) アディティブ製造(3Dプリンタ技術)とコンピュータNCマシンとのハイブリッド技術
(2) EUVマスク製造向けコンピュータリソグラフィソフトウエア
(3) 5nmLSI製造向け完成ウェーハ技術
(4) コンピュータ上の認証や認定の抜け道を探し、生データを抽出するデジタルフォレンジック装置
(5) 通信ハンドオーバーインターフェイスを介して通信オペレータから通信やメタデータを監視・解析するソフトウエア
(6) 弾道飛行体(大陸間弾道ミサイルをはじめ、周回衛星軌道に乗らない飛行体)

全て半導体を使って成り立つ技術である。例えば(4)のコンピュータ犯罪においてデバイスに記録された情報の回収や分析調査を行うデジタルフォレンジックは、国防だけではなく産業スパイ対策としても有効だ。LSI設計データを元半導体メーカーの社員が持ち出したことをAIで突き止めた事件を昨年セミコンポータルでも紹介した(参考資料2)。また、(5)のソフトウエアは、通信が傍受されていないかどうかをチェックするソフトウエアであり、高速にチェックするためにはこのソフトウエアを埋め込む半導体チップが有効になる。

これらの輸出規制は、2018年に定めた米国輸出管理改革法(ECRA: Export Control Reform Act)に沿ったもので、米国の国家安全保障に欠かせない重要な技術である。「『国家戦略:重要な最新技術(National Strategy for Critical and Emerging Technologies)』は、国家の安全保障を守り、防衛や情報、経済における米国の技術的なリーダーシップを維持するために重要なロードマップである」とウィルバー・ロス商務省長官は述べている。

参考資料
1. Secretary Ross Highlights Commerce Actions Supporting Strategy for Critical and Emerging Technologies、商務省プレスリリース (2020/10/15)
2. AIソフトがLSI設計データの機密漏洩事件を解決 (2019/06/25)

(2020/10/16)

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