NEDO ＜半導体に関連する部分を含むもの抜粋＞
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- プラズマジェットを用いたアモルファスSi膜の結晶化技術を開発【産技助成Vol.52】
http://www.nedo.go.jp/informations/press/201028_1/201028_1.html - 平成20年度「ナノテク・先端部材実用化研究開発」に係る採択テーマ（下期分）の決定について（プレス掲載有り）
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EF/nedokoubo.2008-10-17.0110134956/ - 「半導体関連技術プロジェクトに係るアウトカム調査」に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EA/nedokoubo.2008-10-09.7139049915/ - 研究評価委員会「ナノ計測基盤技術」（事後評価）分科会（第1回）資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/20h/jigo/8/index.html - 「カーボンナノチューブキャパシタ開発プロジェクト」（中間評価）分科会（第1回）資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/20h/chuukan/7/index.html - 平成20年度「ナノテク・先端部材実用化研究開発」に係るステージIIに向けた絞り込み評価（ステージゲート）の結果について
http://www.nedo.go.jp/nano/other/201001/index.html - 研究評価委員会「高機能化システムディスプレイプラットフォーム技術開発」（事後評価）第1回分科会の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/BE/Project_Evaluation/Project/JF097/nedoevent.2008-09-01.5017697379/ - 「次世代半導体デバイスモデルの国際標準化事業」に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EA/nedokoubo.2008-08-20.1744254593/ - 大気圧マルチガス高純度プラズマを開発半導体プロセシング、大気圧CVDの高速化や新物質の創造に貢献【産技助成Vol.20】
http://www.nedo.go.jp/informations/press/200812_1/200812_1.html - 高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクトの中間成果を第19回マイクロマシン／MEMS展で発表−最新のデモサンプルを展示ブースで同時出展−（情報更新）
http://www.nedo.go.jp/informations/press/200717_1/200717_1.html - 「半導体アプリケーションチッププロジェクト（情報家電用半導体アプリケーションチップ技術開発）」評価委員会（平成19年度までに終了した個別テーマの事後評価）の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/events/EA/nedoeventpage.2008-08-01.1688007755/ - 研究評価委員会「三次元光デバイス高効率製造」（中間評価）第1回分科会の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/BE/Project_Evaluation/Project/JE148/nedoevent.2008-07-28.1461543073/ - 研究評価委員会「極端紫外線（EUV）露光システム開発プロジェクト」（事後評価）分科会（第1回）の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/BE/Project_Evaluation/Project/JE146/nedoevent.2008-07-02.1493968204/ - 「MEMS分野における戦略策定のための国内外技術動向調査と技術戦略マップのローリングに関する調査」に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EP/nedokoubo.2008-07-14.9473986740/ - 「次世代大型有機ELディスプレイ基盤技術の開発（グリーンITプロジェクト）」に係る委託先を決定 （プレス掲載有り）
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EA/nedokoubo.2008-06-30.4382574656/ - 平成20年度 ナノテクノロジー・材料技術開発部 調査報告会
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/EF/nedoevent.2008-07-03.4457895563/ - 研究評価委員会 第1回「スピントロニクス不揮発性機能技術プロジェクト」（中間評価）分科会の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/BE/Project_Evaluation/Project/JE199/nedoevent.2008-06-27.4023853394/ - 研究評価委員会 第1回「ナノ計測基盤技術」（事後評価）分科会の開催について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/gyouji/events/BE/Project_Evaluation/Project/JG257/nedoevent.2008-06-04.4782049723/ - 平成20年度「ナノテク・先端部材実用化研究開発」に係る採択テーマ（上期分）の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EF/nedokoubo.2008-03-18.4733023727/ - 平成20年度次世代半導体材料・プロセス基盤（MIRAI）プロジェクト第三期
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EA/nedokoubo.2008-05-27.8495988144/ - 「低消費電力プロセッサのための不揮発論理回路基盤技術の開発」個別研究項目追加に伴う公募に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/FK/rd/2008/P03033/nedokoubo.2008-05-13.7370056805/ - 研究評価委員会「次世代半導体材料・プロセス基盤（MIRAI）プロジェクト」（中間評価）分科会（第1回）資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/19h/chuukan/1/index.html - 「ナノテクノロジー国際標準化調査」に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EK/nedokoubo.2008-05-08.5987153499/ - パンフレット「Research and Development of Nanoparticle Characterization Methods」掲載
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/pamphlets/bunya/06kagaku.html - 「カーボンナノチューブに関する標準化調査」に係る委託先の決定について
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/EF/nedokoubo.2008-03-11.2346013629/ - 平成20年度「ナノテク・先端部材実用化開発」に係るステージIIに向けた絞り込み評価（ステージゲート）の結果について
http://www.nedo.go.jp/nano/other/200218/index.html - 研究評価委員会「大容量光ストレージ技術の開発」（事後評価）分科会（第1回）資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/19h/jigo/2/index.html - 研究評価委員会「MEMS用設計・解析支援システム開発プロジェクト」（事後評価）分科会（第1回）資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/19h/jigo/11/index.html - 32ナノ・フォトリソグラフ工程のナノスケール詳細(米国)
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1015/1015-17.pdf?nem - 多結晶シリコンへの集中投資で活路を求める中国の太陽光産業(NEDO北京事務所)
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1015/1015-12.pdf?nem - 研究評価委員会「積層メモリチップの技術開発プロジェクト」(事後評価)分科会(第1回)資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/19h/jigo/6/index.html - 研究評価委員会「ナノコーティング技術プロジェクト」(事後評価)分科会(第1回)資料掲載
http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/bunkakai/19h/jigo/13/index.html - 「半導体アプリケーションチッププロジェクト（情報家電用半導体アプリケーションチップ技術開発）」（平成19年度第2回）の委託予定先を決定-情報家電機器の高機能化・低消費電力化に向けて-
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/191212_6/191212_6.html - 平成19年度「ナノテク・先端部材実用化研究開発」に係る採択テーマ(下期分)の決定について
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/191024_2/191024_2.html - 「MEMSの技術戦略マップのローリングに関する調査」に係る委託先の決定について
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/191016_5/191016_5.html - 「半導体アプリケーションチッププロジェクト（情報家電用半導体アプリケーションチップ技術開発）」の委託予定先を決定-情報家電機器の高機能化・低消費電力化に向けて-
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/190914_5/190914_5.html - 「次世代大型低消費電力液晶ディスプレイ基盤技術開発プロジェクト事業」の助成金交付先を決定！
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/190913_2/190913_2.html - 平成19年度「ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造技術開発-窒化物系化合物半導体基板・エピタキシャル成長技術の開発」に係る委託先の決定-21世紀社会を支える高性能電子デバイスを実現する-
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/190615_4/190615_4.html - 「先端的SoC製造システム高度制御技術開発」の委託先を決定 -システムLSI（SoC）の生産性向上を目指して-
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/190613_4/190613_4.html - 次世代半導体微細加工技術が実現可能に-国内EUVリソグラフィ※1技術開発本格化へ 解像度26nmを達成-
http://www.nedo.go.jp/informations/press/190530_3/190530_3.html
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