AEC/APC Symposium Asia 2023 -複雑さをひも解くデータ活用のベストプラクティス

アブストラクト

Opening & Tutorial 1 Speech

Session chair : 平井 都志也 (KOKUSAI ELECTRIC)

9:45 Opening Remarks from AEC/APC Asia
西村 英孝
ルネサスエレクトロニクス
9:50 プログラムアウトライン
柿沼 英則
キオクシア
9:55
Tutorial-1
[ ONLINE ] 人工知能・機械学習による実践的な分子・材料・プロセスの設計およびプロセス管理
金子 弘昌
明治大学

Session 1

Session chair : 田中 尚人 (東京エレクトロン)、黒澤 敬 (アズビル)

10:40
GX-018
[ ONLINE ] Smart Subfab Transformation using Context-Based Control
Holland Smith
インフィコン
View Abstract
11:00
PTL-013
Unified Platform for detecting faults governed by Process Controls
Vishali Ragam
アプライド マテリアルズ
Applied Materials
View Abstract
11:20
DA-016
Mixed-type Defect Pattern Classifications
Takumi Maeda
筑波大学
View Abstract
11:40
YM-009
画像生成モデルを用いた未知パターンの不良ウェハマップ分類に関する一検討
Seima Sakaguchi
三重大学
View Abstract
12:00 展示・昼食

Keynote Speech

Session chair : 柿沼 英則 (キオクシア)

13:00
Keynote
コンピューティングの未来 - ビット/ニューロン/キュービット -
山道 新太郎
日本アイ・ビー・エム 東京基礎研究所

Session 2

Session chair : 槌谷 孝裕 (ユナイテッド・セミコンダクター・ジャパン)、田中 知哉(タワー パートナーズ セミコンダクター)

13:45
PTL-007
Machine Learning Based Virtual Metrology for Effective Process Control in High Product Mix Manufacturing
Hyung Joo Lee
Siemens EDA
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14:05
PTL-019
低開口率エッチングの終点検出のためのRFモニタリング方法
Chuhua Song
インフィコン
INFICON
View Abstract
14:25
PTL-008
Comparison of Numerical Method with Prefixed Profile and Machine Learning-based Method for Wet Etching Amount Prediction
Chihiro Matsui
東京大学
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14:45
DA-012
パワートランジスタの特性ばらつきの母集団推定と回路シミュレーションへの応用
Haruka Fukumoto
ローム
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15:05
DA-017
後工程における機械学習を用いた不良率予測
Yumiko Miyaji
ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング
View Abstract
15:25 展示・コーヒーブレイク

Tutorial 2 Speech

Session chair : 三宅 賢治 (オフィス三宅)

15:45
Tutorial-2
チップレット集積技術
栗田 洋一郎
東京工業大学

Session 3

Session chair : 土山 洋史 (インフィコン)、澁木 俊一 (ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)

16:30
DA-011
故障予知機能を搭載したインテリジェントモータバルブ
Hiroyuki Kawazato
伸和コントロールズ
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16:50
MEP-010
Development of Versatile Fault Detection Using Image Sensors
Takuya Sugiura
ルネサスエレクトロニクス
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17:10
DA-014
Anomaly detection of semiconductor manufacturing equipment by cluster analysis
Yuki Shiga
KOKUSAI ELECTRIC
View Abstract
17:30
PTL-015
Root Cause Analysis of Plasma Processes Perturbation using Optical Emission Spectroscopy Signals with Modified Autoencoder
Jaehyeon Kim
Sungkyunkwan Univ.
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Author’s Interview / Supplier Exhibition / Reception & Awards

Session chair : 坂本 浩一 (東京エレクトロン)

18:00 オーサーズインタビュー
18:30 展示・レセプション
19:20 Best Paper & Student Award

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