AEC/APC チュートリアル セッション

Planned by AEC/APC Japan Committee
AEC/APC Tutorials(English)

微細化・多品種化が進む中、科学的半導体生産技術の核とも呼べるAEC/APC技術は、半導体製造の効率を左右する重要な技術になってきています。

Virtual Metrologyの利用、バラツキ低減などのプロセス制御、FDCによる装置の安定化、生産性向上、最適化、 コストダウンなどをキーワードに、この分野への関心度は年々高まり業界全体の注目を集めています。

今回はISSM2008の好機に改めてAEC/APCについて、これまでの変遷と現状を紹介します。 また、工場の統合的管理の中での位置づけ、統計的・物理的アプローチからのモデリング詳細と解説を行います。 さらに踏み込んで制御専門家の視点からの具体的事例をTutorial Sessionとしてご紹介します。

業界全体の動向を具体的に把握する事で、早期に実用段階へ移行し、現場へ普及させ、 産業への貢献に繋がる参加者皆様の日常業務へフィードバックして頂けることを期待しております。

講演者−参加者の交流のみならず参加者同士の交流促進も見据え、 デバイスメーカー、装置メーカー、ソフトメーカー等、各界からのご参加をお待ちしています。

講師:

長田 俊彦 氏

富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
専任部長
AEC/APCの過去の経緯と現状

最新の動向
半導体製造において、製造装置をどのように使うかは、製品歩留・品質にかかわる重要な課題である。自動化の仕組みの中で、 装置の扱い方を工夫するのが、AECAPC（Advanced Equipment Control, Advanced Process Control）である。 この分野は20年の歳月を経て、近年著しい成果が生まれている。この注目される最近の世界の動向を紹介する。

売賀 賢介 氏

株式会社デュラシステムズ
代表取締役社長
製造エンジニアリングとAEC/APC

装置データ監視解析モデルの統合化
半導体製造ラインにおける、装置のリアルタイム監視と装置データ解析の統合化について解説します。効果的な装置モデルを開発する視点から、現状の実装システムの課題についても考察します。

清水 洋 氏

株式会社山武
アドバンスオートメーションカンパニー　アドバンスト・ソリューション部　部長
半導体製造工程のAEC/APCに対する制御理論の活用について

プロセス産業分野で培われた制御理論から見た、半導体製造工程におけるAEC/APC分野で使用されている制御技術の現状と今後
半導体産業界におけるAPCの取組みに関して、他産業で培われた制御技術面から以下の観点での考察を試みる
・半導体工程におけるAPCでの計測と制御のモデル
・現在の位置づけ
・今後目指す方向性と適用技術
・実装プラットフォームのあり方