日鉱金属株式会社

出展の見所

弊社では、半導体用・磁気記録用・相変化型記録用・FPD用等様々な用途のスパッタリングターゲットを取り揃えております。セミコンジャパンでは、半導体用スパッタリングターゲット（配線用／バリア用／ゲート電極用／コンタクト用→Cu、Ta、Ti、Co、Ni、他）を中心に展示致します。

	半導体用スパッタリングターゲット最新の半導体用材料として脚光を浴びているCo、Cu、Ta等のターゲットにおいて特に高い信頼を得ています。高度な材料特性のコントロールで、高純度・高密度・パーティクルの低減を実現し、成膜時の膜厚均一性と膜質均質性に優れております。
	450mm多結晶Siテストウェハー本製品は実際の半導体製造用ではなく、半導体関連製造設備メーカー等において450mmシリコンウェハー用の各種プロセス開発のために使用されるものです。単結晶ではないものの、外形寸法や研磨状態は実際のウエハーに極めて近いと言えます。
	MRAM用ターゲット本製品は、磁気記録の記録密度向上のキーデバイスであるGMR/TMRヘッドの主要な材料として使用されています。高度な冶金学的知識と豊富な経験を応用し、最近では次世代不揮発性半導体メモリであるMRAM作製にも利用され始めています。