2013年のSiウェーハ、面積は変わらず金額は14%も減少

図1　シリコンウェーハ面積の推移　出典：SEMIの発表データを元にセミコンポータルが加工

SEMI SMG チェアマンであり信越半導体株式会社社長室担当部長でもある角谷宏氏は「半導体用シリコンの年間出荷面積は、過去3年間にわたり実質的に横ばいで推移しましたが、販売額は、過去2年間で大幅な減少となりました」と述べただけにとどまっている。

シリコンウェーハのサプライヤでは、日本の信越半導体やSUMCOが強い。このため販売額の減少は、円安の影響を受けていると新金属協会のシリコン部会は見ている。実際、三菱UFJリサーチ&コンサルティングによる年間平均レート（参考資料1)によると、2013年に1ドル＝98.65円が2012年は80.82円であった。ただし、為替レートだけでは議論できない。というのは、2011年の平均は1ドル=80.84円と2012年レベルとほとんど変わらないのにもかかわらず、2012年の販売額が減少しているからだ。

このウェーハ面積は、ウェーハメーカーよりエンドユーザーに出荷された、バージンテストウェーハを含む鏡面ウェーハ、エピウェーハおよびノンポリッシュドウェーハを集計したものだとSEMIは述べている。すなわち、半導体メーカーやファウンドリが使うシリコンそのものであるため、歩留まりはさておき、半導体デバイスの使用面積に相当すると考えてよいだろう。

ウェーハ面積が変わらないのに販売額が大きく変わったということは、シリコンウェーハの単価(ドルベース)がそれだけ下がったと言える。

参考資料
1. 前年の年末・年間平均、三菱UFJリサーチ&コンサルティングのホームページ